作者：钨钼云商  发布时间：2018-03-05  点击量：763

    近日，四丰电子靶材发明专利“大家族”中喜添一“新成员”，这是公司围绕高品质靶材自主知识产权保护，积极布局“专利群”战略的又一新成果。本次获得授权的发明专利名称为：一种高纯、高致密、大尺寸钼钛合金溅射靶材制备方法，专利号：201610141360.2。

    四丰电子作为国内首家研发制造高世代TFT-LCD/AMOLED用钼靶材的生产企业，凭借着先进的技术指标、稳定的产品质量和专业的销售服务，是国内首家具备生产G2.5-G11全世代线用钼靶材的企业，业已发展成为国产钼靶材的主力供应商。本专利的获得必将有力的助推四丰电子持续快速发展，巩固公司在钼靶材领域的龙头地位。

    截止目前四丰电子在钼靶材领域已拥有：钼平面靶材制备工艺、钼钛合金靶材制备工艺、钼钠合金靶材制备工艺三项核发明专利，同时高纯铜靶材、钼铌合金靶材、钼钽合金靶材、超宽钼平面靶材四项发明专利已进入实审阶段。